台達電攜手英飛凌,佈局800V電源與碳化矽技術,AI資料中心未來在哪?

近期市場傳出台達電與功率半導體大廠英飛凌深化合作,雙方合作範圍可望延伸至碳化矽(SiC)等關鍵功率元件,引發市場關注台達在下一代 AI 資料中心電力基礎設施的布局。這項合作是否能成為 AI 資料中心電力供應的新突破?

現象觀察:AI 資料中心電力需求攀升

隨著 AI 資料中心機櫃功率不斷上升,800 V 高壓直流(HVDC)已逐步成為新一代供電架構的發展方向,未來更將朝固態變壓器(SST)演進。這一趨勢下,高效能、低損耗的功率元件成為關鍵。

碳化矽(SiC)因其耐高壓、高效率及低損耗等特性,被視為 800 V HVDC 及 SST 的核心功率元件之一,也是支撐未來 MW 等級 AI 資料中心的重要技術。

原因剖析:碳化矽的優勢

相比傳統矽(Si)功率元件,碳化矽具有多方面的優勢。首先,碳化矽可以承受更高的工作溫度,提高系統的可靠性和穩定性。其次,碳化矽的高擊穿電場強度使其能夠在高電壓環境下運作,進一步提升電力轉換效率。再者,碳化矽的低導通損耗和快速開關速度,使得其在高頻率應用中表現出色,有效降低能源損耗。

影響評估:雙方合作的戰略意義

英飛凌是全球主要功率半導體供應商之一,在矽(MOSFET)、氮化鎵(GaN)及碳化矽(SiC)等功率元件均具備完整產品布局,產品廣泛應用於 AI 資料中心、工業自動化、再生能源及電動車等領域。近年隨著 AI 電力需求快速成長,英飛凌也積極投入高效率電源管理及高功率密度解決方案,成為全球 AI 電源供應鏈的重要廠商。

去年,英飛凌宣布與台達共同開發 AI 資料中心高功率密度垂直供電(VPD)模組,結合英飛凌 OptiMO MOSFET 晶片與嵌入式封裝技術,以及台達在電源模組設計與製造的能力,打造高效率、高功率密度的電源解決方案。

趨勢預測:未來的電力基礎設施

值得注意的是,台達近年持續布局 SST 技術。台達總裁張訓海今年於 GTC 2026 表示,公司早在過去便投入 SST 研發,除目前積極推動 800 V 電源架構外,SST 預計最慢將於 2027 年迎來市場爆發。

從產業面來看,台達與英飛凌的合作將不僅僅是技術上的互補,更是市場策略上的協同。這項合作有望加速碳化矽技術在 AI 資料中心的普及,推動高效率電力基礎設施的發展,進而滿足日益增長的 AI 電力需求。

市場認為,若雙方合作進一步深化至 SiC 領域,將有助於支撐台達布局 SST 與下一代 AI 電力基礎設施所需的關鍵功率元件。

面對未來,台達與英飛凌的合作能否成功突破 AI 資料中心電力供應的瓶頸?讀者不妨持續關注這兩家公司的最新動態,並思考這項技術對自身行業可能帶來的影響。

本文改寫整理自公開新聞來源,原始報導由科技新報發布。

常見問題 FAQ

台達電與英飛凌合作的主要領域是什麼?

台達電與英飛凌的合作主要集中在碳化矽(SiC)等關鍵功率元件,旨在提升 AI 資料中心的電力基礎設施。

碳化矽(SiC)有哪些優勢?

碳化矽具有耐高壓、高效率及低損耗等特性,尤其適合高電壓和高頻率應用,有效提升電力轉換效率。

800 V 高壓直流(HVDC)的應用前景如何?

800 V 高壓直流(HVDC)已成為新一代供電架構的發展方向,未來將朝固態變壓器(SST)演進,支撐未來 MW 等級 AI 資料中心的電力需求。

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