韓國SEC推出X光檢測新利器 瞄準HBM與玻璃基板製程商機

關鍵數字:韓國SEC最新開發的X光檢測系統可偵測小至3微米的晶片缺陷,預計將在2026年SSPA展覽中正式亮相。

📊 技術突破總覽

韓國檢測設備大廠SEC宣布成功研發「Semi-Scan-SW」X光自動化線上檢測系統,專為高頻寬記憶體(HBM)生產線設計。這項創新技術最大亮點在於能非破壞性地檢測晶片內部結構,解決傳統光學檢測的盲點。

🔍 檢測能力解析

根據SEC技術規格,該系統可精確識別HBM堆疊製程中產生的3-5微米級缺陷。更值得關注的是,此設備同時適用於玻璃基板的TGV(Through Glass Via)製程檢測,並支援晶圓級封裝(WLP)鍵合製程的品質把關。

🚀 市場布局策略

SEC計劃本月起向主要HBM製造商提供評估樣品,展開內部Alpha測試。產品開發流程將分三階段推進:Alpha測試→客戶Beta測試→最終驗證。公司預計在2026年Smart SMT & PCB Assembly展會上正式推出這項產品,目標鎖定晶圓代工廠與封測廠客戶。

📈 技術發展軌跡

SEC自2002年投入X光檢測設備研發,2006年實現工業用X光產生器商業化。從最初專注表面黏著技術(SMT),逐步擴展至半導體、車用電子等領域。去年取得的HBM專用X光檢測技術,更成為本次新系統的核心基礎。

數據告訴我們什麼?

隨著HBM市場需求持續升溫,SEC這項技術突破正好切中產業痛點。從檢測精度到應用範圍的擴展,顯示該公司已建立完整的技術生態系,有望在半導體檢測設備市場取得更大份額。

常見問題 FAQ

Semi-Scan-SW系統的主要優勢為何?

相較傳統光學檢測,該系統採用X光技術可實現非破壞性的晶片內部檢測,且能識別3-5微米的微小缺陷。

這項技術還可應用於哪些領域?

除HBM生產線外,該系統也適用於玻璃基板的TGV製程檢測,以及晶圓級封裝的鍵合製程品質控制。

SEC預計何時正式推出這項產品?

公司規劃在2026年Smart SMT & PCB Assembly展覽中首次公開展示,目前正進行Alpha測試階段。

※ 此篇文章由 AI 改寫或生成,內容僅供參考,可能存在錯誤或不準確之處。